类型 | 1个N沟道 | 漏源电压(Vdss) | 50V |
连续漏极电流(Id) | 200mA | 导通电阻(RDS(on)@Vgs,Id) | 2.2Ω@4.5V,200mA |
功率(Pd) | 150mW | 阈值电压(Vgs(th)@Id) | 1V@1mA |
输入电容(Ciss@Vds) | 25pF | 反向传输电容(Crss@Vds) | 3pF@10V |
工作温度 | -55℃~+150℃ |
RUM002N05T2L 是一款由罗姆公司(ROHM)制造的高性能 N 沟道金属氧化物半导体场效应管(MOSFET),旨在满足现代电子产品对高效能与高可靠性的需求。该器件的设计特别适合用于各类低功耗应用,包括但不限于电源开关、马达控制、信号开关和其他需要精确控制电流的场合。其能够在小型化设备中提供出色的性能,使其成为现代电子工程师和设计师的优选。
RUM002N05T2L 具有如下重要参数:
高效率:该 MOSFET 在各种工作条件下展现出卓越的导通性能,尤其是在较低的驱动电压下,最大 Rds(on) 的值为仅 1.2Ω,这意味着在实际应用中可以显著减少能量损耗。
快速开关能力:低输入电容使得 RUM002N05T2L 具有极快的导通和关断时间,有助于提高开关频率,从而在变换器和电源管理领域提供优化的解决方案。
宽工作范围:器件的栅极驱动电压(Vgs)范围为 ±8V,使其具备更大的灵活性,可以适应不同的电路设计要求。
温度稳定性:140°C 的最大工作温度为该器件提供了很好的安全裕度,使其在高温环境下能够持续稳定工作,从而增加产品的可靠性。
RUM002N05T2L 采用 VMT3 (SOT-723) 封装,具有极小的占用空间,适合高密度布局的电路设计。该封装不仅提高了电气性能,同时也方便于现代电子设备的轻薄化设计。
总的来说,RUM002N05T2L N 沟道 MOSFET 的卓越特性与高效能使其成为电子设计中的宝贵元件。其广泛的应用潜力与优良的性能尤其适合需要快速开关、高效能与高可靠性的场合。随着未来电子设备向着更小型、更高效的发展趋势不断推进,RUM002N05T2L 将在多个领域展现出无与伦比的应用价值,助力工程师在设计创新的道路上取得更大成就。