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STD3NK50ZT4 产品实物图片
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注:图像仅供参考,请参阅产品规格数据手册

STD3NK50ZT4

商品编码: BM0000287382
品牌 : 
ST(意法半导体)
封装 : 
DPAK
包装 : 
编带
重量 : 
0.459g
描述 : 
场效应管(MOSFET) 45W 500V 2.3A 1个N沟道 DPAK
库存 :
0(起订量1,增量1)
批次 :
-
数量 :
X
2.33
按整 :
圆盘(1圆盘有2500个)
合计 :
¥0
梯度
内地(含税)
香港
1+
¥2.33
--
100+
¥1.79
--
1250+
¥1.56
--
37500+
产品参数
产品手册
产品概述

STD3NK50ZT4参数

漏源电压(Vdss)500V连续漏极电流(Id)(25°C 时)2.3A
栅源极阈值电压4.5V @ 50uA漏源导通电阻3.3Ω @ 1.15A,10V
最大功率耗散(Ta=25°C)45W类型N沟道
FET 类型N 通道技术MOSFET(金属氧化物)
25°C 时电流 - 连续漏极 (Id)2.3A(Tc)驱动电压(最大 Rds On,最小 Rds On)10V
不同 Id、Vgs 时导通电阻(最大值)3.3 欧姆 @ 1.15A,10V不同 Id 时 Vgs(th)(最大值)4.5V @ 50µA
不同 Vgs 时栅极电荷 (Qg)(最大值)15nC @ 10VVgs(最大值)±30V
不同 Vds 时输入电容 (Ciss)(最大值)280pF @ 25V功率耗散(最大值)45W(Tc)
工作温度-55°C ~ 150°C(TJ)安装类型表面贴装型
供应商器件封装DPAK封装/外壳TO-252-3,DPak(2 引线 + 接片),SC-63

STD3NK50ZT4手册

STD3NK50ZT4概述

产品概述:STD3NK50ZT4 N沟道MOSFET

STD3NK50ZT4 是由意法半导体(STMicroelectronics)生产的一款高性能N沟道金属氧化物半导体场效应管(MOSFET),其具有500V的漏源电压(Vdss)、2.3A的连续漏极电流(Id)以及45W的最大功率耗散(Ta = 25°C)。在现代电子设计中,这款MOSFET由于其优异的电气特性和可靠性,被广泛应用于开关电源、DC-DC转换器、电动机驱动和新能源设备等多个领域。

主要规格

  • 漏源电压(Vdss): 500V
  • 连续漏极电流(Id): 2.3A (在25°C时)
  • 栅源极阈值电压(Vgs(th)): 4.5V @ 50µA
  • 漏源导通电阻(Rds(on)): 3.3Ω @ 1.15A, 10V
  • 最大功率耗散: 45W (在有限的工作温度下,Tc = 25°C)
  • 工作温度范围: -55°C至150°C(TJ)
  • 栅极电荷(Qg): 15nC @ 10V
  • 输入电容(Ciss): 280pF @ 25V
  • 最大栅源电压(Vgs): ±30V
  • 封装类型: DPAK(TO-252-3)

性能优势

STD3NK50ZT4的设计充分考虑了高电压输入应用的需求。其500V的漏源电压使其在高压环境中表现卓越。这款MOSFET的低导通电阻3.3Ω在1.15A的电流下,使得其在开关过程中能够有效地降低功耗,提升设备效率。

该MOSFET的栅源阈值电压为4.5V,这意味着其可以在较低的栅电压下被激活,适合于低端驱动电路。其驱动电压范围为10V,可以在大多数常见的应用场景中获得最佳性能。

应用场景

STD3NK50ZT4非常适合用于高效的开关模式电源(SMPS)、电动车辆、光伏逆变器、工业控制系统以及高能效电机驱动等。这些应用对MOSFET的性能提出了较高的要求,而STD3NK50ZT4凭借其优异的电气特性和可靠性,可以轻松满足这些挑战。

例如,在开关电源设计中,使用这款MOSFET可以有效地减少开关损耗,提高系统效率,实现更高的功率密度。同时,其耐高温和高压的特性为长时间稳定工作提供了保障,减少了因过热或过载导致的潜在故障风险。

封装与安装

STD3NK50ZT4采用表面贴装型DPAK封装(TO-252-3),具有小型化、轻量化的特性,便于大规模生产和自动化贴装。DPAK封装的设计有助于有效散热,提升器件的工作稳定性。此外,其封装尺寸和引脚布局符合行业标准,确保与现有电路设计的良好兼容性。

结论

作为一款高性能的N沟道MOSFET,STD3NK50ZT4凭借其优越的电气特性、可靠的工作性能以及广泛的应用适应性,成为各种电源管理和控制电路的理想选择。无论是用于工业应用,还是在消费电子产品中,STD3NK50ZT4都能够为设计师提供强大的支持和灵活的设计选择。选择STD3NK50ZT4,有助于实现更高效、更可靠的电子产品设计,同时推动科技创新的发展。