根据《彭博社》报导，美国正在推动荷兰禁止该国曝光微影设备制造商艾司摩尔 (ASML) 出售相关主流技术给大陆，以进一步遏止中国大陆在半导体产业崛起的趋势。美国政府希望将限制范围扩大至稍旧的DUV光刻机设备等，这些设备是半导体生产过程中所必需的，并且在这一市场中ASML拥有垄断地位。

 

不仅如此，美国还试图在对中国禁售光刻机方面向日本施加压力，因为日本尼康公司在ArFi光刻机领域占有少量市场份额。

 

 

美国提议的禁售，将使现有向中国出售最先进系统的限制范围进一步扩大，意在挫败中国成为全球芯片生产领导者的计划。如果荷兰政府同意，目前禁止发往中国的芯片制造设备范围和类别将大幅拓宽，从而可能令中芯国际和华虹半导体等芯片制造商受到沉重打击。

 

知情人士透露，美国官员正在游说荷兰当局，禁止ASML出售一些旧款的深紫外线光刻机（DUV）。这些机器虽然在技术层次上与当前最尖端的极紫外光曝光微影系统 (EUV) 相比落后了一代，但仍是生产汽车、手机、计算机、甚至是机器人芯片时最常使用到的设备。

 

 

不愿公开身份的知情人士称，这一要求是美国商务部副部长Don Graves，5月底到6月初访问荷兰和比利时讨论供应链问题时提出来的。

 

据知情人士表示，荷兰政府尚未同意对ASML向中国芯片制造商的出口实施任何额外限制，因此举可能会损害该国与中国的贸易关系。但由于无法获得荷兰政府的出口许可，ASML已经无法向中国出口其最先进的极紫外线光刻机，极紫外线光刻机每台售价约1.6亿欧元。

 

而除了ASML之外，美国政府方面也正试图对日本施压，要求日本与ASML竞争的厂商Nikon也禁止向大陆提供相关的技术。对此，Nikon则表示，目前没有得到相关的讯息。

 

对于此事，美国商务部和荷兰外交部不予置评。

 

 

中国是芯片消耗大国，也是ASML的重要客户。SEMI的数据显示，2021年中国大陆市场半导体销售额高达296.2亿美元，同比增长58%，为全球最大的半导体市场，占比高达28.9%。

 

据ASML发布的2022第一季度财务报告，在今年Q1季度ASML就向中国出货了23台光刻设备。中国已超越美地区成为ASML的第三大市场，占ASML销售份额超过14%。

 

 

“光刻设备是中国大陆在半导体制造方面最难替代的设备，”台湾经济研究所（Taiwan Institute of Economic Research）分析师王强森（Johnson Wang）说。“如果没有光刻设备，中国大陆芯片产业的进步可能会停滞不前。”

 

在彭博社发布该消息之后，ASML的美国存托凭证跌幅扩大到了8.3%，这是自2020年3月以来的最大盘中跌幅。