6月30日荷兰政府颁布了有关半导体设备出口管制的新条例。将自9月起实施，要求相关企业在出口先进产品前必须获得许可证。

 

 

6月30日荷兰政府颁布了有关半导体设备出口管制的新条例。将自9月起实施，要求相关企业在出口先进产品前必须获得许可证。

 

据了解，这些新的出口管制条例针对对象为先进的45nm及以下芯片制造技术，包括最先进的ALD原子沉积设备、外延生长设备、等离子体沉积设备和浸润式光刻系统，以及用于使用和开发这类先进设备的技术、软件。

 

根据新出口管制条例规定，ASML 需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式 DUV 系统（即 TWINSCAN NXT：2000i 及后续推出的浸润式光刻系统）。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向 ASML 提供许可证所附条件的细节。就在荷兰6月30日宣布一项新法律将限制出口先进芯片生产设备之后，该公司的股票一度下跌近4%，最终当天下跌了1.2%。

 

荷兰政府新颁布的出口管制条例将于 2023 年 9 月 1 日生效，在此日期前，ASML 可开始提交出口许可证申请。荷兰政府将视具体情况批准或拒绝这些申请。

 

ASML表示荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及部分最新DUV型号，包括 TWINSCAN NXT:2000i 及后续推出的浸润式光刻系统。EUV光刻机在此前已经受到限制，其他系统的发运未受荷兰政府管控。DUV浸润式光刻系统，包含：TWINSCAN NXT:2050i、NXT:2050i、NXT:1980Di 三种光刻机，这些能够进行38nm~45nm制程的晶圆加工。

 

此外，能够进行45nm以上晶圆加工，如65nm-220nm制程的干式DUV光刻机如：TWINSCAN XT:400L、XT:1460K、NXT:870等，均不在荷兰制裁清单内。

 

新条例还将影响的DUV光刻系统如下