中国Prinano宣称利用纳米压印技术实现8英寸光子芯片量产，绕过DUV光刻
中国光子芯片初创企业Prinano于近日宣布，已成功验证基于8英寸硅晶圆的纳米压印光刻（NIL）技术路线，实现光子芯片的量产。此举绕开了传统深紫外（DUV）光刻设备，有望降低中国半导体产业对进口光刻系统的依赖。
据《南华早报》消息，Prinano的纳米压印技术可直接在晶圆上压印出纳米级结构，适用于光子集成电路（PIC）制造。该公司声称其工艺兼容现有CMOS后端产线，并已通过小批量试产证明其稳定性和均匀性。当前，光子芯片在数据中心光互连、激光雷达和量子计算等领域的应用需求激增，Prinano的低成本量产方案可能加速相关技术落地。
业内分析指出，若该技术大规模推广，或将成为中国在先进制程受限背景下的重要突破路径之一。