上海AI实验室联合团队攻克光刻胶稳定生产瓶颈

近日，上海人工智能实验室联合产业合作伙伴宣布，在半导体制造核心材料光刻胶的稳定量产方面取得重要突破。光刻胶是芯片光刻工序中不可或缺的材料，其分辨率、敏感度及批次一致性直接影响着晶圆制造的良率和器件性能。长期以来，稳定生产高质量光刻胶一直是全球产业链的难点，相关技术被少数外国企业垄断。

该联合团队聚焦光刻胶配方设计与工艺控制，引入深度学习与强化学习等人工智能技术，对树脂、光敏剂、添加剂等配方组分进行高通量筛选，同时结合制造过程中的实时传感数据，动态优化生产参数，最终实现了光刻胶关键指标的精确调控。通过AI训练出的模型，不仅大幅缩短了配方研发周期，还保证了不同批次间产品性能的高度一致。

据悉，此次突破意味着在高端光刻胶领域，我国具备了自主稳定供应的能力，有望打破长期以来对进口的依赖，对保障国内半导体产业链安全具有重要意义。目前，相关成果已完成中试验证，即将进入规模化生产阶段。