泛林集团与PSK就斜面蚀刻机专利爆发纠纷，韩国专利诉讼持续升温

随着韩国供应商在先进芯片制造设备领域持续扩大份额，半导体设备市场的竞争正变得愈发激烈。首尔中央地方法院第62民事庭于8月13日就泛林集团对PSK提起的专利侵权诉讼举行了第五次听证会。该案主要围绕斜面蚀刻机相关专利展开，泛林集团认为PSK在晶边蚀刻设备中使用了其受保护的技术，而PSK方面则对侵权指控提出抗辩，双方在专利有效性、技术特征比对以及权利要求范围等核心问题上展开多轮交锋。

斜面蚀刻机用于去除晶圆边缘的多余薄膜，在先进制程中直接影响良率与可靠性。随着韩国设备企业逐步进入高阶芯片制造供应链，海外设备大厂与本土厂商之间的知识产权摩擦明显增多。此次纠纷不仅关系到涉事产品的市场销售，也可能对晶边蚀刻设备领域的竞争格局带来影响。目前案件仍在审理中，后续进展将持续受到行业关注。