东京应化工业获美光2026供应商奖，前道工序材料质量获认可

要点：

• 东京应化工业在“Micron Supplier Day 2026”上获得供应商奖。
• 该公司在评估前道工序材料质量的“Front End Quality”部门获奖。
• 其实现了美光对最先进工艺材料所要求的质量改善。

东京应化工业（Tokyo Ohka Kogyo）11月4日宣布，在美国美光科技（Micron Technology）举办的“Micron Supplier Day 2026”上荣获“Micron Outstanding Supplier Performance Award”。该公司在评估半导体前道工序材料质量的“Front End Quality”部门获奖，评审认可其与美光协作中在质量、创新和协同方面的举措。颁奖典礼在美国爱达荷州博伊西举行，美光及包括东京应化工业在内的供应商管理层出席。

东京应化工业是半导体材料制造商，产品包括光刻胶（photoresist）和高纯度化学品等，优势为“微细加工技术”“高纯度化技术”“积层化技术”，面向半导体高性能化和制造工艺演进开发、生产材料。随着半导体微细化和结构复杂化，材料中的微量杂质及不同产品间的特性波动更容易影响良率和器件性能。尤其在DRAM和NAND型闪存等量产中，稳定供应同等质量材料、抑制生产线工艺波动至关重要。

据东京应化工业介绍，美光全球质量部门针对最先进工艺提出高质量要求，公司内部统一质量意识，积极攻克难题，并持续研究可行的改善方案，最终实现美光所要求的质量改善。这一系列举措和成果促成了此次获奖。

Micron Supplier Awards是表彰优秀供应商的年度奖项。2026年设置14个部门，通过基于多种标准的综合评估流程确定获奖企业。表彰对象除Front End Quality外，还包括建设、前道工序设备、IT与专业服务等，覆盖从半导体工厂建设、制造设备、材料到数字基础设施和专业服务的广泛供应商。美光通过供应商计划与各公司建立伙伴关系，致力于提升质量、创新和可持续发展水平；通过紧密合作促进双方业务增长，并提高向美光客户提供的产品和服务价值。

在AI服务器和数据中心普及背景下，DRAM和NAND需要更大容量、更高速度和更低功耗。提升存储器性能不仅依赖器件结构、电路设计和制造设备，前道工序所用光刻胶和高纯度化学品的性能与质量同样重要。光刻胶是光刻工艺中用于在半导体基板上形成电路图案的感光材料；要稳定形成微细电路，除提升材料性能外，还需抑制量产时批次间的质量波动。高纯度化学品方面，微量金属杂质或异物可能影响制造工艺，因此面向先进工艺需要高纯度和稳定的质量管理。

此次获奖可以说认可了东京应化工业与美光协作推进的质量改善，以及由此提升的面向先进工艺的半导体材料供应可靠性。