美国拟扩大对华芯片设备限制，ASML在华DUV光刻业务承压

美国正酝酿将芯片设备出口限制延伸至ASML（阿斯麦）在华剩余的深紫外（DUV）光刻业务。据荷兰媒体NU.nl报道，美国准备向荷兰施压，要求其对ASML向中国出售芯片制造设备实施近乎全面的禁令。根据拟议的《多边硬件技术管制对齐法案》（MATCH Act），美国盟友可能被要求将其敏感技术的出口管制与美国保持一致，这意味着限制范围可能扩大至仍向中国出售的老一代ASML设备，以及对已交付机器的维护服务。若荷兰不配合，可能面临美国制裁。

报道称，荷兰官员正在华盛顿大力游说，试图阻止该法案，但成功机会似乎有限。该法案获得两党支持，并有望被纳入美国国防预算，而该预算很少遭否决。

MATCH法案的两党推动可追溯至今年早些时候。路透社指出，该法案于4月2日在美国众议院提出，旨在填补对华芯片制造设备销售限制的空白，并让美国管制与日本、荷兰等盟友保持一致。

尽管系统销售份额下降，中国仍是ASML的重要市场。根据ASML最新财报，按发货地点统计，2026年第二季度中国占其净系统销售额的14%，低于第一季度的19%。由于极紫外（EUV）对华出口已受限，ASML对华剩余系统销售主要集中在旧一代DUV设备。

中国加速国产DUV，但ASML差距犹存

在ASML可能面临更严格限制之际，中国正加快自主研发光刻设备。路透社7月底报道，国有背景的上海爱晟纳电子科技集团（Shanghai Aishengna Electronic Technology Group）在整合了本地光刻企业Yuliangsheng和上海微电子装备（SMEE）的团队后，主导国产浸没式DUV光刻机的生产。最早报道该生产计划的The Information指出，其目标是在2026年生产约5套DUV系统，2027年约20套。首批系统预计今年交付给中芯国际（SMIC）、华虹半导体（Hua Hong Semiconductor）和长鑫存储（CXMT）等中国主要芯片制造商。

尽管取得进展，中国国产DUV产量相对于本地需求仍然有限。香港中通社指出，中国仅在2025年就进口了95套DUV系统，远超其新兴国产生产计划最初规划的产量。