ASML日本成立25周年扩编至700人 高NA EUV路线图更新

荷兰ASML旗下子公司ASML日本（ASML Japan）9月3日在东京都内举行成立25周年纪念媒体发布会。ASML日本社长藤原祥二郎与技术营销总监永原诚司出席，披露日本市场营收占比已达5%，并宣布到2030年度将人员从500人扩充至700人，同时更新了高NA EUV产品路线图。

作为全球光刻设备龙头，ASML是目前唯一能够量产供应EUV光刻机的厂商。EUV光刻机在7nm及以下逻辑工艺以及1c nm/1γ nm DRAM工艺中不可或缺，使用这些最先进工艺的客户均导入了ASML的EUV设备。因EUV设备单价高昂，ASML业绩持续强劲：2022年营收为212亿欧元，今年预计达到430亿至450亿欧元，几乎翻番。其中，今年以来的DRAM需求爆发是重要推动力。从销售金额占比看，2025年面向DRAM的光刻设备销售额仅为面向逻辑设备的一半左右，而目前两者已大致持平。除排名前三的DRAM厂商外，长鑫存储（CXMT）、南亚科技（Nanya）、华邦电子（Winbond）等存储企业均公布了大规模扩产投资计划，部分已开始动工，订单随之大量涌入ASML。逻辑方面，台积电等厂商也在大幅扩产，据称目前有20座工厂同时在建。按这一势头，预计到2026年末，面向DRAM的设备出货金额将超过面向逻辑的设备。

从出货量与金额结构看，EUV光刻机的出货量仅占ASML总量的9%，DUV光刻机（KrF、ArF/ArF浸没式）占52%，其余为计量/检测设备；但在销售金额中，EUV占比高达48%，可见EUV设备的昂贵程度。

按地区来看，日本市场近期增长迅速，营收占比已达到5%。ASML年报显示，日本市场营收占比2023年为2.22%，2024年为4.09%，2025年为4.35%，近期才突破5%。增长主要来自美光广岛工厂导入EUV光刻机、日本产业技术综合研究所（产综研）导入High-NA EUV（高数值孔径EUV）光刻机，此外面向功率半导体的DUV光刻机销售也推高了数字。不过藤原社长强调，对ASML而言，日本不只是销售光刻设备和计量检测设备的市场。

今年是ASML日本设立25周年，该公司目前在8个据点共拥有500名员工。按藤原社长的说法，这些据点本质上就是客户所在之处。回顾2010年代，日本半导体厂商相继关闭或缩小自有晶圆厂，转向Fabless（无晶圆厂）或Fab Lite（轻晶圆厂）模式，ASML日本主要承担设备的交付、安装和售后服务，处境相当艰难。期间虽有与其它光刻设备厂商竞争中胜出而获得客户的时刻，但总体上是在缩小的市场中坚持了下来。与其他地区不同，日本的材料、掩膜、零部件和半导体设备厂商依然活跃，保有全球竞争力。ASML日本的另一项重要工作，正是与这些生态系统伙伴进行对接与合作，这一点与英特尔日本（Intel Japan）的情形非常相似。

面向2030年度，ASML日本计划将员工规模从目前的500人扩充到700人，以进一步强化生态系统合作及供应链。新增的200个岗位大多用于客户支持。此外，ASML无论在日本还是其他国家，都不会在本地设立研发部门，与客户和合作伙伴的联合研究、联合开发均直接与荷兰总部对接。

永原诚司还在会上简要介绍了未来的产品路线图，包括NA=0.33的NXE:3000系列和NA=0.55（高NA）的EXE:5000系列。针对高NA工艺使用的光刻胶材料，ASML也给出了一份候选路线图，不过该路线图并非最终确定方案，只是目前最有潜力的若干选项。永原还比较了逻辑与DRAM工艺的K1（工艺系数）：逻辑芯片在0.7nm世代可将K1压缩到0.33，而DRAM即使到了0D nm世代，K1仍维持在0.45～0.49。原因是逻辑电路多为一维布局，对焦更加容易；DRAM的二维结构则难以实现同等程度的聚焦控制。

值得关注的是，在2024年imec技术论坛（ITF 2024）上，ASML的Martin van den Brink曾展示Hyper-NA（NA=0.75）对应HXE系列的路线图，原定2028年导入；但在此次发布的内容中，该系列并未出现。藤原社长就此回应称，ASML本就有在2030年代导入Hyper-NA的计划，目前仍在推进开发，但具体时间尚未确定，将根据市场行情与客户协商，在必要的时间点提供必要的技术。早前在2024年路线图发布时，就有Hyper-NA面临多项课题、解决尚需时间的说法，因此Hyper-NA的实际落地恐怕还要等待相当长的时间。