东京应化工业韩国平泽工厂竣工 投120亿日元产高纯度化学品

要点

• 东京应化工业投资约120亿日元，在韩国平泽建成新工厂。
• 这是该集团在韩国首个高纯度化学品生产基地。
• 将强化对韩国半导体厂商的供应体系，计划于2027年上半年投产。

东京应化工业于9月15日宣布，其合并子公司TOK尖端材料（TOKAM）在韩国京畿道平泽市建设的平泽工厂已竣工。

平泽工厂是东京应化工业集团在韩国的第二个生产基地。第一期建设了高纯度化学品制造厂房、仓库及附属设施，总建筑面积约6300平方米，投资额约120亿日元，计划于2027年上半年投产。

（图为平泽工厂高纯度化学品制造厂房外观，来源：东京应化工业）

韩国首个高纯度化学品生产基地

东京应化工业于2012年设立TOK尖端材料，作为其在韩国的光刻胶（photoresist）研发、制造和销售基地。通过该子公司，公司一直向韩国半导体厂商供应产品并提供客户支持。

新平泽工厂将生产半导体制造过程中使用的高纯度化学品。对东京应化工业集团而言，这将成为其在韩国国内制造高纯度化学品的首个基地。

半导体制造所用化学品必须严格管理金属、有机物、微粒子等杂质。随着半导体微细化不断推进，微量杂质或异物导致电路图案缺陷、良率下降的可能性上升，因此材料的高纯化和质量稳定性十分重要。

平泽工厂的制造厂房设有具备先进半导体制造所需洁净度的洁净室区域，建立了稳定生产高质量产品的体制。

强化地产地消型供应体制

东京应化工业在高纯度化学品领域采用“地产地消型”业务模式，即在靠近客户半导体制造基地的地区生产并供应。

高纯度化学品需要在包括运输和保管在内的整个供应链中管理质量。将生产基地设在半导体工厂附近，可以缩短运输距离和交货期，也更容易迅速应对客户的需求波动和规格变更。

韩国集聚了内存和逻辑半导体的大规模制造基地。在面向AI服务器的HBM等高性能内存以及先进半导体需求扩大的背景下，韩国半导体厂商正在推进产能增强和先进工艺投资。

通过让平泽工厂投产，在韩国国内拥有高纯度化学品生产能力，公司希望从靠近客户的地点迅速、稳定地供应产品，从而抓住半导体市场扩大的机遇。

扩充光刻胶与高纯度化学品供应功能

TOK尖端材料此前通过光刻胶的研发、制造和销售，承担着扩大东京应化工业集团产品在韩国市场采用率的作用。

随着平泽工厂建成，高纯度化学品制造功能加入进来，韩国半导体材料供应体制得到扩充。通过拉近与客户的距离，公司可加快根据制造工艺和要求规格进行产品开发、质量应对和供应调整。

在先进半导体领域，不仅曝光工艺使用的光刻胶，显影、清洗、去除等各工艺使用的化学品也要求更高纯度和质量稳定性。

东京应化工业将活用其在韩国积累的客户应对能力和光刻胶业务基础，推动包括高纯度化学品在内的半导体材料业务扩大。

计划2027年上半年投产

平泽工厂计划于2027年上半年投产。

此次完成的第一期设施由高纯度化学品制造厂房、仓库和附属设施构成。投产后，将根据韩国客户需求生产产品，并转向从韩国国内供应的体制。

东京应化工业在中期经营计划“tok中期计划2027”中，将构建稳固的供应链列为重点举措之一。

公司把平泽工厂定位为向韩国半导体市场供应高纯度化学品的重要基地，将提升质量、供应稳定性和客户应对能力。今后也将着眼于半导体市场扩大，继续考虑面向生产基础扩充和研发基础强化的设备投资。