中国据报已量产浸没式DUV光刻机，中芯国际、华虹、长鑫存储年内有望收货

中国半导体设备自主化进程再传关键突破。据Tom's Hardware援引科技媒体The Information的消息，上海一家由国家支持的光刻机制造商已悄然启动浸没式DUV光刻系统的规模化生产，这标志着中国在突破西方技术封锁上迈入了新阶段。

浸没式DUV光刻机是制造7纳米及以上制程芯片的核心设备，长期以来被荷兰ASML及日本尼康等企业垄断。此次量产若属实，将极大缓解国内晶圆厂的产能扩张瓶颈。消息指出，首批商用系统已完成组装测试，预计今年内交付主要客户。

中芯国际、华虹半导体、长鑫存储被视为首批接收方，它们均处于产能快速拉升期，对先进光刻设备需求迫切。中芯国际在28纳米至14纳米节点持续扩产，华虹则加码特色工艺，长鑫存储的DRAM产线更是工艺升级的关键时期。国产浸没式DUV工具的到位，将直接支撑这些企业的产能规划。

该报道还提及，这家上海制造商在过去两年中攻克了浸没式控制、高精度物镜等核心技术难题，且在供应链上实现了较高比例的本土配套。尽管在产能和良率稳定性方面尚待规模验证，但它已被视为中国光刻机产业从实验室走向产线的标志性事件。

不过，业内分析人士提醒，初期产出的机台可能在套刻精度、产效方面与ASML的成熟产品存在代差，预计会首先用于成熟制程的扩产和非关键层工艺，但这一突破无疑将加快中国在先进半导体装备上的追赶速度。