意法半导体与新加坡国立大学共建联合实验室聚焦下一代边缘AI

意法半导体(STMicroelectronics)与新加坡国立大学(NUS)于8月24日宣布成立“ST–NUS HELIX企业联合实验室”(HELIX),面向下一代边缘AI技术展开研究。

HELIX全称为“Hardware for Embodied Low-power Intelligent Xcceleration”,是一项为期四年的合作计划,将围绕生成式AI(Generative AI)和具身AI(Embodied AI)在边缘侧落地的核心技术,从AI模型、系统架构,到电路、存储器和硅片实现,进行一体化研究。

该实验室获得新加坡“研究、创新与企业2025计划”(RIE 2025)支持,以新加坡国立大学设计与工程学院为基地,并由新加坡国立大学计算机学院参与。双方将共同推进研发、人才培养、知识产权创造及演示验证。(HELIX研究示意图,图片来源:意法半导体)

聚焦具身AI,解决边缘部署瓶颈

HELIX重点关注具身AI——即将AI嵌入机器人、人形机器人、无人机等设备,实现多模态感知、设备端计算与实时动作执行协同。

这类设备需要对摄像头和传感器数据进行低延迟处理,同时面临安装空间和功耗的严格限制。为此,HELIX从AI模型、异构加速器、片上存储层级、电路设计、芯片集成等多个维度进行联合优化,以解决能效、存储带宽、延迟和可扩展性等关键挑战。

在具体研究方向上,以内存为中心的架构、存算一体(in-memory computing)以及可扩展的运算-存储集成系统是核心重点。

减少数据移动,提升能效

AI处理中,数据在运算单元和内存之间移动会消耗大量电能。在内存附近或内部执行计算,以及将运算电路与非易失性存储器集成在同一颗芯片上,旨在减少外部数据迁移,从而提高处理性能与能效。

研究将采用意法半导体的“P18 18nm FD-SOI”工艺与嵌入式相变存储器(PCM)。P18 18nm FD-SOI支持超低功耗运行和自适应衬底偏置,可根据处理负载动态调整性能与功耗。嵌入式PCM能在片上SRAM存储层级所在的同一裸片上提供高密度非易失性存储,将AI模型和计算数据留在芯片内,从而减少内存密集型AI工作负载中的片外数据移动。

产业级设计平台加速产业化

意法半导体将向NUS提供基于P18 18nm FD-SOI的专用设计平台,该平台整合了意法半导体的硅工艺、架构、异构集成、芯粒(chiplet)和工程技术。

借助该平台,研究人员无需从零搭建基础设计环境,即可直接开展新型AI加速器的开发、集成和验证。通过产业级平台进行系统级验证,旨在缩短研究成果向可量产半导体解决方案转化的周期。

NUS方面则提供集成电路、计算机体系结构、AI模型和系统设计等领域的研究能力,与意法半导体的芯片开发和制造能力相结合,推动边缘AI半导体从研究走向产业化。

同时,实验室将为学生、研究人员和工程师提供参与联合项目的机会,使其获得AI系统与半导体设计的实际经验。双方表示,将通过HELIX促进研究成果产业化,并助力新加坡构建支撑半导体与AI产业发展的人才和研究生态。

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