Asflow获荷兰ALD设备商Hastelloy管道组件订单

韩国半导体管道组件制造商Asflow继与全球设备制造商L公司达成交易后，又将向荷兰领先的原子层沉积（ALD）设备制造商A公司供应设备内部管道组件。Asflow已获得A公司Hastelloy合金管道组件订单。

设备组件在Asflow营收中的占比预计将快速上升；此前该公司营收以半导体制造工厂管道为主。证券分析师预计，其明年营收可能较今年水平大约翻倍。

据行业消息人士10月26日透露，Asflow近期获得A公司用于ALD设备的Hastelloy焊接管道组件（即weldments）订单。A公司首次将Hastelloy组件引入其设备，因而选择Asflow作为供应商。这是两家公司之间的首次交易。

Hastelloy是一种含铬、钼等元素的耐腐蚀镍合金，原为美国Haynes International的商标，行业也常用这一名称指代该类合金。其原材料成本据称是常规管道材料的10倍以上。耐腐蚀性有助于减少工艺气体侵蚀管道内壁时产生的微颗粒。随着制程节点日益先进，更小颗粒也可能影响半导体良率，相关需求正在增加。

Asflow生产用于输送气体的Hastelloy管材以及连接管材的接头，同时按照客户设备图纸供应焊接组装的完整weldments。公司根据客户需求预测提前锁定原材料，并已将精密加工、电解抛光（EP）、清洗和焊接能力纳入内部。Asflow表示，收到订单后约一个月内即可交付产品。

富士金（Fujikin）、UCT和Ichor等全球供应商也提供Hastelloy管道组件。但管材、接头的生产及后续组装常由不同公司承担，导致交付周期拉长。仅原材料采购据称就需三至四个月，成品交付可能超过一年。行业观察人士称，随着管道组件交期延长，Asflow的一体化制造能力已成为其竞争优势。

Asflow还有望获得更多客户。公司正与包括全球逻辑半导体制造商I公司在内的其他企业讨论采用Hastelloy组件。I公司据报考虑将现有设备内部管道更换为Hastelloy组件，以减少颗粒产生并延长组件寿命。Asflow也在与正在转向钼材料的公司讨论供应机会。钼前驱体在室温下为固体，材料升华并以气体形式供应时管道可能腐蚀，这催生了对高耐腐蚀组件的需求。

Asflow同时推进原材料本土采购。自2024年起，公司参与政府支持项目，目标是为目前从日本、欧洲等市场采购的Hastelloy原材料建立韩国供应链。公司正与SeAH Changwon Special Steel等钢企合作，建立覆盖材料生产、组件制造和组装的国内能力。

Asflow此前通过全球半导体设备制造商L公司的质量审核，并取得weldment供应协议。公司正分阶段获得向L公司供应约1000个weldment物项的批准。最新订单使其设备内部组件客户数量增至两家。

设备内部组件供应商面临严格的资格要求，因为客户必须共享详细的设备图纸。行业观察人士表示，除非出现特殊情况，供应商一旦通过资格认证，通常能保持其在供应链中的地位。