上海微电子新一代光刻机量产 核心部件国产化率超90%

中国正在加快国产光刻设备的研发步伐。据ijiwei报道，在11月5日至10日于上海举行的第九届中国国际进口博览会（CIIE）上，上海微电子装备（SMEE）展出了新一代前道干式扫描投影光刻系统SSC800和SSB800的模型。报道称，模型采用透明剖面设计，可直观展示光路与内部机电系统，凸显中国在光刻机自主化方面的进展。

报道指出，该平台支持I-line和KrF光刻，核心部件包括投影光学系统、照明系统、双晶圆台与掩模台、自动化物料传输系统，以及自主研发的精密对准与调平传感器。其关键部件中超过90%在中国境内采购，反映出光刻设备本土化取得进展。

SSC800（KrF）和SSB800（I-line）基于SMEE专有的双工件台平台，配备国产高数值孔径（NA）投影物镜。报道称，其成像性能与同类国际领先产品相当，套刻精度和产能持续接近国际基准。

在商业化方面，上述系统已进入大规模量产，填补了中国国产光刻设备产业的空白。报道称，多台设备已在中国领先的逻辑和存储晶圆厂稳定运行，累计支持加工超过1000万片晶圆，设备可用率超过92%。

两款系统面向不同工艺需求。据EETOP援引SMEE的消息，SSC800 KrF系列支持110nm及以上光刻工艺，面向AI与高性能计算、DRAM与NAND Flash、微处理器以及Micro LED等应用；SSB800 I-line系列则面向280nm及以上工艺，服务功率半导体、模拟IC和MEMS等成熟制程应用。

据ijiwei报道，SMEE成立于2002年，是中国唯一能够持续交付量产型前道干式光刻系统的制造商，业务覆盖设备开发、制造、销售和技术服务。该公司是2022年12月被美国商务部列入实体清单的36家中国实体之一；上海电气为其最大股东，持股34.9099%。

中国在浸没式DUV光刻方面也在取得进展。路透社援引消息人士称，国有背景的Shanghai Aishengna在整合SMEE和光刻初创公司宇量昇（Yuliangsheng）的团队后，已开始量产自主研发的浸没式DUV系统。但路透社指出，这些系统仍需进一步测试，距离比肩ASML的同类竞品仍有较大差距。

另有报道称，华为正在支持包括宇量昇在内的国内企业开发先进芯片制造设备的关键部件。据《金融时报》报道，宇量昇参与研发了中国首台国产先进DUV光刻机，消息人士称计划到2026年底生产12台系统。