据路透社报道，荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher在给议会的一封信中宣布，计划对半导体技术出口实施新的限制以保护国家安全，这也意味着荷兰将加入美国遏制对华芯片出口的行列。

荷兰将对华限制出口DUV光刻设备

自2019年以来，除了世界最先进的极紫外光（EUV）设备已禁止销往中国，在美国协商多时的压力下，荷兰政府最终还是同意对目前仍卖到中国的旧款深紫外光曝光机（DUV）也设限，全球最大的光刻机制造商ASML必须先取得荷兰政府许可才能继续出口中国。

 

据报道，她的信中没有提到荷兰的主要贸易伙伴中国，也没有提到荷兰半导体设备主要供应商ASML，但中国和ASML都将受到影响。信中指出，其中一项将受到影响的技术是“DUV”光刻技术，这是ASML销售给电脑芯片制造商的第二先进设备。

她解释这次限制的理由：我们要避免荷兰的设备被应用在军事上，并确保我们的技术领先地位，还要降低对中国的战略性依赖。此外，她还表示，虽与美国多次沟通，与美国同样顾虑高端技术输往中国，但我们是基于自己的评估而决定。并表示这些限制将在夏季之前实施。

荷兰对外贸易部长施莱纳马赫8日接受《电讯报》专访指出，新禁令下还是有许多更低端的设备可以销往中国，无需取得许可，包括制造汽车、冰箱、电话和风力发电机所需芯片的设备。

至于是否担心遭到中国报复，她表示不做推测，但强调“我们手中握有很重要的技术，中国也想要持续获得些技术。许多较低阶的深紫外光曝光机还是供应给中国。”

 ASML紧急回应

关于荷兰政府宣布即将出台的半导体设备出口限制的信息，ASML在官网发布了关于荷兰增加出口管制的声明。ASML表示，这些新的出口管制主要针对先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和浸没式光刻工具。

 

由于这些即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能装运最先进的浸没式DUV系统。

所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。

在这方面，重要的是要考虑到额外的出口管制并不适用于所有的浸入式光刻工具，而只适用于所谓的“最先进的”。虽然ASML没有收到任何关于“最先进”的确切定义的额外信息，但ASML将其解释为“临界沉浸式”。ASML在我们的资本市场日中将其定义为TWINSCAN NXT:2000i和后续的沉浸式系统。

 

此外，ASML指出，主要关注成熟节点的客户可以使用不太先进的浸入式光刻工具，这也意味着只有TWINSCAN NXT:2000i和后续系统会受到额外出口管制的影响，主要用于成熟制程的浸没式光刻机将不会受到限制。
ASML强调，基于今天的公告、我们对荷兰政府许可政策的预期以及目前的市场形势，我们预计这些措施不会对我们发布的2023年财务前景或去年11月投资者日期间宣布的长期情况产生重大影响。

ASMI也将受限

需要注意的是，据computable报道，除了ASML“DUV”光刻技术将受影响外，规模较小、几乎同名的ASM International（简称ASMI）也将受限。

ASMI生产用于采用原子层沉积（ALD）技术芯片的晶圆涂层设备。ASMI首席财务官Paul Verhagen表示，根据目前的估计，限制将影响的产品占中国销售额的七分之一到四分之一，占整个集团销售额的3%左右。

ASMI在美有庞大业务，此前有报道认为，ASMI宁肯牺牲中国的销售。根据ASMI去年11月份的预估，美国出口管制将对该公司造成欧洲主要芯片公司里最严重的冲击，影响到ASMI对中国的40%销售，占ASMI营收达16%。ASMI CEO Benjamin Loh此前表示，中国对ASMI的业务占比不小，但还不致于置我们于死地。