日东电工推出耐污染反渗透膜元件，助力半导体行业废水再利用

日东电工于9月7日宣布，推出适用于半导体制造等各类产业制造流程中产生的高难度废水再利用的耐污染反渗透（RO）膜元件“PRO-XR1-X-LD”。

RO膜作为一种去除水中杂质的分离膜，此前已广泛应用于工业用水制造、废水再利用等领域。近年来，随着水资源有效利用和降低环境负荷的需求上升，产业废水再利用的呼声日益增强。但半导体制造工序产生的废水中含有大量有机物、微粒子等易导致膜污染（fouling）的成分。污染一旦加重，处理性能就会下降，膜的清洗和更换频率随之增加，进而推高运行成本和环境负荷。

为应对这类处理难度较高的产业场景，日东电工此前已推出RO膜元件“PRO系列”。本次发布的新品，在该系列中定位于面向高难度废水处理、着重抑制膜污染的耐污染RO膜元件。

据日东电工介绍，通过自有表面涂层技术与流路结构优化，新品能够抑制有机物和胶体粒子的附着，在保持高脱除性能的同时减轻污染引起的性能衰减，即便在高负荷排水条件下也能实现稳定的处理效果和高效水回收。此外，由于膜清洗频率降低，膜寿命约为传统产品的2倍，有助于减少维护负担和运行成本。借助高效的水资源循环再利用，还可降低整个制造过程的环境负荷。

公司还提到，在2026年5月公布的中期经营计划中，已将包括分离膜业务在内的“绿色科技”列为增长领域之一。今后将继续提供满足半导体制造等产业领域水处理需求的产品与解决方案，为客户的水资源有效利用和环境负荷降低做出贡献。